产品介绍
本产品是隔离膜，为了选择性地透光，刻有一定的图案。
使用光掩膜时，可形成众多电路和图案。
光掩膜是用于半导体直接电路 (LSI)、平面显示屏 (LCD、OLED)、印刷电路基板 (PCB) 等的微小电路原板。
产品查询
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优点
- 大面积
- 超精密
- 低成本
- 实现超精密图案
Fine CD : Chrome 0.6um, Space 1.0um
Transmittance control : 4% ~ 55%
- 拥有大面积 Photo mask 原创技术
与世界上最早的 8.5 代用 Mask 相应 :1,220x1,400mm(13t)
拥有 Quartz Polishing, Cr sputtering, PR Coating 技术
- 世界上最早开发 Large Area Pattern Generator
产品种类
| 分类 | Specification |
|---|---|
| Binary Mask | CD Tolerance ≤± 0.20um, Range ≤0.25um |
| Fine-Slit Mask | CD Tolerance ≤± 0.10um, Range ≤0.10um |
| Half-tone Mask | Transmittance Tolerance ≤± 1.0% Uniformity ≤ 2.0% |
| Multi-tone Mask | Transmittance Target : 4% ~ 55% (3-tone 以上) |
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| 日期 | 主题 |
|---|---|
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