产品介绍
本产品是隔离膜,为了选择性地透光,刻有一定的图案。
使用光掩膜时,可形成众多电路和图案。
光掩膜是用于半导体直接电路 (LSI)、平面显示屏 (LCD、OLED)、印刷电路基板 (PCB) 等的微小电路原板。
产品查询
欲了解产品详情,请联络的联系人。
优点
- 大面积
- 超精密
- 低成本
- 实现超精密图案
Fine CD : Chrome 0.6um, Space 1.0um
Transmittance control : 4% ~ 55%
- 拥有大面积 Photo mask 原创技术
与世界上最早的 8.5 代用 Mask 相应 :1,220x1,400mm(13t)
拥有 Quartz Polishing, Cr sputtering, PR Coating 技术
- 世界上最早开发 Large Area Pattern Generator
产品种类
分类 | Specification |
---|---|
Binary Mask | CD Tolerance ≤± 0.20um, Range ≤0.25um |
Fine-Slit Mask | CD Tolerance ≤± 0.10um, Range ≤0.10um |
Half-tone Mask | Transmittance Tolerance ≤± 1.0% Uniformity ≤ 2.0% |
Multi-tone Mask | Transmittance Target : 4% ~ 55% (3-tone 以上) |
相关新闻
日期 | 主题 |
---|---|
目前尚无相关信息。 |