제품소개
빛을 선택적으로 투과시키기 위해 일정한 패턴이 새겨진 차단막입니다.
포토마스크를 이용하면 수 많은 회로 및 패턴의 형성이 가능합니다.
포토마스크는 반도체직접회로(LSI), 평판디스플레이(LCD, OLED), 인쇄회로기판(PCB) 등에 사용되는 미세회로의 원판으로 사용됩니다.
제품문의
제품 문의는 담당자 연락처로 문의주시기 바랍니다.
특장점
- 대면적
- 초정밀
- 저비용
- 초정밀 패턴 구현
Fine CD : Chrome 0.6um, Space 1.0um
Transmittance control : 4% ~ 55%
- 대면적 Photo mask 원천기술 보유
세계 최초 8.5세대用 Mask 대응 : 1,220x1,400mm(13t)
Quartz Polishing, Cr sputtering, PR Coating 기술 보유
- 세계 최초 Large Area Pattern Generator 개발
라인업
| 구분 | Specification |
|---|---|
| Binary Mask | CD Tolerance ≤± 0.20um, Range ≤0.25um |
| Fine-Slit Mask | CD Tolerance ≤± 0.10um, Range ≤0.10um |
| Half-tone Mask | Transmittance Tolerance ≤± 1.0% Uniformity ≤ 2.0% |
| Multi-tone Mask | Transmittance Target : 4% ~ 55% (3-tone 이상) |