제품소개

빛을 선택적으로 투과시키기 위해 일정한 패턴이 새겨진 차단막입니다.

포토마스크를 이용하면 수 많은 회로 및 패턴의 형성이 가능합니다.

포토마스크는 반도체직접회로(LSI), 평판디스플레이(LCD, OLED), 인쇄회로기판(PCB) 등에 사용되는 미세회로의 원판으로 사용됩니다.

제품문의

제품 문의는 담당자 연락처로 문의주시기 바랍니다.

특장점

대면적
대면적
초정밀
초정밀
저비용
저비용
    초정밀 패턴 구현

    Fine CD : Chrome 0.6um, Space 1.0um

    Transmittance control : 4% ~ 55%

    대면적 Photo mask 원천기술 보유

    세계 최초 8.5세대用 Mask 대응 : 1,220x1,400mm(13t)

    Quartz Polishing, Cr sputtering, PR Coating 기술 보유

    세계 최초 Large Area Pattern Generator 개발

라인업

구분 Specification
Binary Mask CD Tolerance ≤± 0.20um, Range ≤0.25um
Fine-Slit Mask CD Tolerance ≤± 0.10um, Range ≤0.10um
Half-tone Mask Transmittance Tolerance ≤± 1.0%
Uniformity ≤ 2.0%
Multi-tone Mask Transmittance Target : 4% ~ 55% (3-tone 이상)