제품소개
빛을 선택적으로 투과시키기 위해 일정한 패턴이 새겨진 차단막입니다.
포토마스크는 반도체직접회로(LSI), 평판디스플레이(LCD, OLED), 인쇄회로기판(PCB) 등에 사용되는 미세회로의 원판으로 사용됩니다.
제품문의
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특장점
- 대면적
- 초정밀
- 저비용
- 초정밀 패턴 구현
Fine CD : Chrome 0.6㎛, Space 1.0㎛
Transmittance control : 4%~55%
- 대면적 Photo mask 원천기술 보유
10.5세대用 마스크 대응 : 1,620×1,780mm(17t)
※ Available 1,800×2,000mm(23t)
Quarts Polishing, Cr sputtering, PR Coating 기술 보유
라인업
| 구분 | Specification |
|---|---|
| Binary Mask | CD Tolerance ≤± 0.20μm, Range ≤0.25μm |
| Fine-Slit Mask | CD Tolerance ≤± 0.10μm, Range ≤0.10μm |
| Half-tone Mask | Transmittance Tolerance ≤± 1.0% Uniformity ≤ 2.0% |
| Multi-tone Mask | Transmittance Target : 4% ~ 55% (3-tone 이상) |